第二十一章 真空镀膜（下）（2/3）

婉清讲解道“机械泵，最多只能将舱内压强降至零点几帕，必须使用分子泵才能将压强降低至十的负五次方帕这个数量级，从而达到蒸镀实验所需的最低真空度要求。

分子泵只能在低压强下使用。所以在压强大于20帕时，采用超真空挡板阀，阻隔分子泵和蒸镀舱连接；当压力低于20帕时将其关闭，再使分子泵和蒸镀舱连通。

分子泵启动后，还需要较长的时间，才能使蒸镀舱内压强达到1e5级别。

这个时间在半小时至一个半小时之间。

如果一个半小时过后仍无法达到这个真空度，通常有两种情况。

一种是体系气密性不好，比如在关舱门时，门缝处夹了一个塑料膜；

另一种是舱体内蒸镀残留物过多，需要清理。”

虽然系统里也有影像资料供许秋学习，但他觉得还是听学姐讲解更舒服一些。

而且两个人站一起一直不互动也蛮尴尬的。

……

一小时后。

真空计示数达到52e5帕，升温程序也进入第二阶段，一切正常。

十二分钟后。

温度示数达到400摄氏度，膜厚仪显示的实时蒸镀速率，在001至001埃每秒之间波动，膜厚显示仍为000埃。

三分钟后。

温度示数继续增加，直至480摄氏度左右，蒸镀速率开始在000至003埃每秒之间波动。

当温度达到520摄氏度后，蒸镀速率维持在020至030埃每秒。

许秋先开启样品台旋转，在等待了约十秒钟后，同时打开样品挡板并将膜厚仪的膜厚计数器归零。

钙要蒸镀10纳米的厚度，也就是100埃。

待膜厚仪示数达到100埃时，许秋迅速关闭样品挡板。

随后，他将束源炉升温数控装置关闭，让束源炉自然降温。

最后，将膜厚仪的参数改为铝的参数。

半小时后。

束源炉的温度降低至77摄氏度。

许秋关闭钙的束源炉挡板，打开电流加热装置。

这个加热装置很简单，就是把电源、钨篓、电位器（类似于滑动变阻器）、保险丝、电流计连在一起，通过调节电位器，便可以改变电路中的电流大小。

许秋缓慢扭动电位器的旋钮，使电流计示数从0逐渐增加至18安培。

当电流达到16安培时，膜厚仪上蒸镀速率开始有了示数。

电流达到18安培后，许秋等待了几秒，然后同时打开样品挡板并清零膜厚仪的膜厚计数器。

蒸镀速率则先是从02、03迅速提升至30，随后迅速回落至18，之后缓缓下降至17，16埃每秒……

电流计的示数也会随着时间变化，忽上忽下。

每当其相较于18的偏离值超过1时，许秋就将其调至18。

铝的厚度要求是100纳米，也就是1000埃。

待膜厚仪示数达到1000埃时，许秋迅速按下样品挡板。

然后缓缓扭动电位器，将电流归零。

接着关闭超真空挡板阀，停止分子泵。

等待十分钟后，分子泵转速从27000r降至0，关闭其开关。

最后，关闭机械泵，关闭总控台。

…………

“终于结束啦！”许秋长吁了一口气，感慨道。

“这么多操作，居然零失误，厉害呀！”陈婉清竖起了大拇指。

“这都是学姐教的好。”许秋道。

“行啦，别谦虚了，你的科研天赋我心里有数呢。

想想我当初学蒸镀，可是没少让魏老师头疼，不是忘记开空气泵，就是忘开挡板，甚至还有一次忘记放基片了。”陈